簡要描述: IN-LZ2氯(lv)離(li)子自(zi)動(dong)電位滴(di)定儀(yi)采(cai)用全(quan)自(zi)動(dong)控制程(cheng)序,儀(yi)器自(zi)動(dong)完成全(quan)部(bu)滴(di)定過(guo)程(cheng)。試(shi)驗(yan)過(guo)程(cheng)中儀(yi)器自(zi)動(dong)提示(shi)操(cao)作步驟,整個試(shi)驗(yan)過(guo)程(cheng)符合標準要求,操(cao)作簡(jian)便。
一、產品概(gai)述: |
IN-LZ2氯離子自動電位滴定儀采用全自動控制程序,儀器自動完成全部滴定過程。試驗過程中儀器自動提示操作步驟,整個試驗過程符合標準要求,操作簡便。
此設備適用以下(xia)標準:
GB/T 176-2017《水泥化(hua)學(xue)分析(xi)方(fang)法》中所(suo)規(gui)定的氯(lv)離子測定——(自動)電位滴定法;
GBT 50344-2004《建筑結構檢測技(ji)術標準(zhun)混凝土》——混凝土中氯離(li)子含量(liang)測定(ding);
JGJT 322-2013《混凝土中(zhong)氯(lv)離(li)子含(han)量檢(jian)測(ce)技術規(gui)程》——混凝土中(zhong)氯(lv)離(li)子含(han)量測(ce)定;
JGJ52-2006《普通(tong)混凝土用砂、石質(zhi)量及檢驗方法標準》——砂中氯離(li)子(zi)含量試驗;
JTS/T 236-2019《水(shui)運工程(cheng)混凝土試驗檢測技術規范》;
GBT 8077-2012 《混凝土外(wai)加劑(ji)勻質性試驗方法》——氯(lv)離子含量電位(wei)滴定法;
GB/T 5484-2012《石(shi)膏化學(xue)分(fen)析方法》——(自動)電位(wei)滴(di)定法。
GB/T37785-2019《煙(yan)氣脫(tuo)硫石膏》——(自動)電位滴定法(fa)。
GB 11896《水質 氯化物的(de)測定(ding)》——硝酸銀滴定(ding)法;
GBT 3558-2014《煤(mei)中氯(lv)的測定方(fang)法》 ——電位滴定法;
GBT 7484-1987《水質(zhi)氟(fu)化物(wu)的測定》——離(li)子選擇電極法(fa)
T/QGCML 609—2023《新型氯離子(zi)自動電位(wei)滴定(ding)儀》
二、性能特點: |
l 7寸彩色觸摸屏顯示操控;
l 試(shi)驗(yan)軟件中(zhong)文顯(xian)示(shi)(可支持英文版本);
l 實時顯(xian)示日期(qi)和時間;
l 溫度精度0.1℃;
l 定(ding)時(shi)屏保功能,省電(dian)節(jie)能;
l 自動校(xiao)準出(chu)水體積;
l 測量電極電位(wei)分辨(bian)率0.01mV;
l 滴定管控制分辨(bian)率1/12288;
l 電(dian)極支架可自動升降,高度自由調節;
l 實時動態顯(xian)示試(shi)驗曲(qu)線,自動計算測量(liang)點及氯離子(zi)含(han)量(liang);
l 內置存儲芯片(pian),可記錄(lu)250條試驗過程數(shu)據;
l 可自動配置(zhi)標(biao)準(zhun)溶液,一鍵設置(zhi);
l 自動清洗功能;
l 磁力攪拌功能;
l 帶打(da)印(yin)機,直接打(da)印(yin)試驗結果;
三、主要(yao)參數: |
1. 氯離子濃度范圍: | 10-1~5×10-5(mol/L) |
2. 氟離子濃度: | 10-1~1×10-6(mol/L) |
3. pH使用范圍: | 2~12pH |
4. 精度級別: | 0.05級 |
5. 電計輸入阻抗: | 3×1012 |
6. 滴定體積: | 25ml |
7. 滴定管分辨率: | 1/12288 |
8. 電位測量范圍: | 0~3000mV |
9. 電位分辨率: | 0.01mV |
10. 溫度測量范圍: | -55~+125℃ |
11. 溫度分辨率: | 0.1℃ |
12. 電源電壓: | 220V±10% 50Hz |
13. 電源功率: | 25w |
14. 試驗溫度: | 0~40℃(推薦10~30℃) |
15. 儲存環境: | 溫度(-30~+65)℃,濕度≤95%RH |
16. 打印功能: | 自帶微型打印 |
17. 主機尺寸: | 390×300×300mm |
18. 包裝尺寸: | 450×385×500mm |
19. 儀器凈重: | 約14.5kg |
20. 設備毛重: | 約17.0kg |
四(si)、設備配置: |