IN-Q8000全(quan)自(zi)(zi)動二次(ci)熱解析(xi)儀(yi)是一款(kuan)全(quan)自(zi)(zi)動二次(ci)（冷阱）熱解析(xi)儀(yi)，30個樣(yang)(yang)(yang)品位，采(cai)用(yong)半導體制冷，冷阱溫度可低至-35℃（視實驗環境溫度）。進樣(yang)(yang)(yang)閥系統(tong)采(cai)用(yong)電機驅動，扎針采(cai)用(yong)氣動方式。具(ju)有標準樣(yang)(yang)(yang)品模擬采(cai)樣(yang)(yang)(yang)功能(neng)。富集、進樣(yang)(yang)(yang)等(deng)流程全(quan)自(zi)(zi)動化，可與國產、進口氣相色譜(pu)儀(yi)配合使用(yong)。

1.二次解析，靈敏度高

2.10.2英寸彩色(se)觸摸屏(ping)

3.30位樣品盤

4.開機自動檢(jian)漏，壓差(cha)報(bao)警

5.精密壓力傳感器(qi)，壓力屏幕數字顯示

6.任意隨(sui)機選擇樣(yang)品管(guan)位(wei)

7.樣品盤界面4種(zhong)顏色區分，進樣管、備選管、有管、無管運行狀態一目了然

8.動畫(hua)顯示循(xun)環時間及工作(zuo)狀態(tai)

9.進口(kou)鈍化(hua)拋(pao)光(guang)處理氣路管，殘留量低重現性高

10.半導體制(zhi)冷(leng)，冷(leng)阱溫度低至(zhi)-35度

11.內存多種方(fang)法，隨時調用，快速分析

12.伴(ban)熱管與進樣(yang)閥自(zi)動反(fan)吹(chui)，避免樣(yang)品交叉污染

13.可同步啟動(dong)色譜及工作站，樣(yang)品分析一鍵完成

14.EPC電(dian)子流量控制(zhi)系統(選配)

15.可與國內(nei)外任意(yi)品牌(pai)GC、GC/MS聯(lian)用

1. 一次解吸溫度調節范圍： 室溫～380℃，精度±0.5℃增量1℃任設

2. 二次(ci)解吸溫度調節范(fan)圍： 室溫～380℃，精度±0.5℃增量1℃任設 升溫速(su)率>3000℃/分(fen)

3. 聚焦冷阱溫(wen)度(du)調節范圍： 室(shi)溫(wen)～ -40℃（與室(shi)內溫(wen)度(du)有關） 精度(du) ±1℃ 增量 1℃任(ren)設(she)

4. 樣品相(xiang)關管路(lu)溫度(du)調節(jie)范圍(wei)：室(shi)溫～ 260℃， 精度(du) ±1℃ 增量 1℃任設

5. 六通閥溫度調(diao)節范圍： 室溫～ 260℃， 精(jing)度 ±1℃ 增量 1℃任設

6. 樣品(pin)傳送中的部位處(chu)理： 可(ke)選、可(ke)編程流(liu)量、溫度與時間可(ke)調（如：反吹樣品(pin)傳送、采集管的活(huo)化/ 老化等(deng)）

7. 外事可控數量： 15 個

8. 外(wai)事時間控(kong)范圍： 0.1 ～ 99 分鐘 定時誤差(cha)：<0.1%

9. 樣品采(cai)集管材(cai)料(liao)和(he)規(gui)格(ge)： 不銹鋼(gang) 、石英玻璃、規(gui)格(ge) （可選）

10. 捕集管材料和規格： 不銹鋼、石(shi)英玻璃、彈性(xing)石(shi)英毛細管等(deng)（可選）

11. 一次熱解析流量： 0 ～ 100 ML/min 連續(xu)可調 ( 有指示）

12. 氣(qi)缸驅動氣(qi)壓力： ＜ 0.4MPa（可調）

13. 氣路及相關部件耐壓： > 0.4MPa

14. 一批(pi)樣品處理數(shu)量： 30 個(ge)

15. 分(fen)析精度： RSD <2.5%（和(he) GC 性能和(he)操作技術(shu)有(you)關）

16. 性能參數： 半峰寬 <3S 解吸率 >98%（甲苯 0.1ul 分(fen)流 10 ：1）

17. 儀(yi)器功率： ＜1000VA

18. 聯動(dong)信(xin)號(hao)輸出開關時間： < 2 秒

19. 儀器外形尺寸(cun)： 高(gao) × 寬 × 長 470mm×490mm×450mm

20. 重量：約 40 Kg