IN-Q8000全自(zi)動(dong)(dong)二次熱解析(xi)儀是一款全自(zi)動(dong)(dong)二次（冷阱）熱解析(xi)儀，30個樣品位，采(cai)用半導體制(zhi)冷，冷阱溫(wen)度(du)可低至(zhi)-35℃（視實驗環境溫(wen)度(du)）。進樣閥系(xi)統采(cai)用電機(ji)驅動(dong)(dong)，扎針(zhen)采(cai)用氣動(dong)(dong)方式。具有標準樣品模擬采(cai)樣功能。富集、進樣等流程全自(zi)動(dong)(dong)化，可與(yu)國(guo)產、進口氣相色譜儀配合使用。

1.二次解析，靈敏度高

2.10.2英寸(cun)彩色觸摸屏

3.30位樣品盤

4.開機自(zi)動檢漏，壓(ya)差報(bao)警(jing)

5.精密(mi)壓力(li)(li)傳感器，壓力(li)(li)屏幕數字(zi)顯示

6.任意隨機選擇(ze)樣品管位

7.樣品盤界面(mian)4種顏色(se)區(qu)分，進樣管、備選管、有管、無(wu)管運行(xing)狀(zhuang)態一目(mu)了(le)然(ran)

8.動畫顯(xian)示循環時間及工作狀(zhuang)態

9.進口鈍化拋(pao)光處(chu)理(li)氣路管，殘留量低重現性高

10.半導體制冷，冷阱溫度低至-35度

11.內存多種方法，隨(sui)時(shi)調用(yong)，快速(su)分(fen)析

12.伴熱管與(yu)進樣(yang)閥自動反吹，避免樣(yang)品交(jiao)叉污染

13.可同步(bu)啟(qi)動色譜及(ji)工作(zuo)站(zhan)，樣(yang)品分析一鍵完成

14.EPC電子流(liu)量控制系統(tong)(選(xuan)配(pei))

15.可與(yu)國內外(wai)任意(yi)品牌GC、GC/MS聯用

1. 一次解吸溫度調節范圍： 室溫～380℃，精度±0.5℃增量1℃任設

2. 二次解(jie)吸溫(wen)度調節范圍： 室溫(wen)～380℃，精度±0.5℃增量(liang)1℃任設(she) 升(sheng)溫(wen)速率(lv)>3000℃/分

3. 聚焦冷阱溫度調節范圍(wei)： 室溫～ -40℃（與室內溫度有關） 精(jing)度 ±1℃ 增量 1℃任(ren)設(she)

4. 樣品相關(guan)管路溫(wen)度調節(jie)范(fan)圍：室溫(wen)～ 260℃， 精(jing)度 ±1℃ 增量 1℃任(ren)設

5. 六通閥溫度調節范圍： 室溫～ 260℃， 精度 ±1℃ 增量 1℃任設

6. 樣品(pin)傳送(song)中的部位處理： 可選、可編程流量、溫度與時間(jian)可調（如：反吹樣品(pin)傳送(song)、采集管的活(huo)化/ 老化等）

7. 外事可控(kong)數量： 15 個

8. 外(wai)事(shi)時間控范圍： 0.1 ～ 99 分鐘(zhong) 定時誤差(cha)：<0.1%

9. 樣品(pin)采(cai)集管材料和(he)規(gui)格： 不銹鋼 、石英玻璃、規(gui)格 （可選(xuan)）

10. 捕集管材料和規(gui)格： 不銹鋼、石英(ying)玻璃(li)、彈性石英(ying)毛細管等（可選）

11. 一(yi)次熱解(jie)析流量： 0 ～ 100 ML/min 連(lian)續(xu)可調(diao) ( 有指示(shi)）

12. 氣缸驅動氣壓力： ＜ 0.4MPa（可調）

13. 氣路及相關部件(jian)耐壓： > 0.4MPa

14. 一批樣品處理(li)數量： 30 個

15. 分(fen)析(xi)精(jing)度(du)： RSD <2.5%（和 GC 性能和操作技術有關）

16. 性能參(can)數： 半峰寬 <3S 解(jie)吸率 >98%（甲苯 0.1ul 分流 10 ：1）

17. 儀器功(gong)率： ＜1000VA

18. 聯動信號輸出開關時間(jian)： < 2 秒

19. 儀器外形尺寸： 高 × 寬 × 長(chang) 470mm×490mm×450mm

20. 重(zhong)量(liang)：約 40 Kg